(۲۰ بهمن ۱۳۹۲ ۱۲:۲۳ ق.ظ)azarakhsh1986 نوشته شده توسط: اگر برای ساخت ترانزیستور pmos تخلیه ای با فناوری n-well process با ۱۰ لایه فلز به ۳۰ عدد ماسک نیاز باشد، ساخت یک ترانزیستور nmos افزایشی در همین فناوری با دو لایه چند ماسک نیاز دارد ؟
۱۴ ماسک
۱۲ ماسک
۱۳ ماسک
۲۰ ماسک
برای حل این سوال من میام میگم ۱۰ لایه فلز داریم که براشون به ۲۰ ماسک نیازه / ترانزیستور از نوع تخلیه ای پس ۱ ماسک برای کانال / دقت کنید که ترانزیستور pmos رو در فناوری n-well ساختید. یعنی substrate شما از نوع p بوده که یک چاه n روی این زیربنا قرار گرفته. پس یک ماسک هم اینجا نیازه در حالی که این ماسک رو ترانزیستو nmos ای که میخواین بسازین نیاز نداره پس این ماسک هم مشترک نیست.
خب تا اینجای کار فهمیدیم به ۲۲ ماسک غیر مشترک که شاملِ ۲۰ ماسکِ فلز و یک ماسک کانال و یک ماسک داریم و بنابراین ۸ ماسک مشترک برامون باقی میمونه.
بدون اینکه نیازی باشه که بدونیم اصن این ۸ ماسک مشترکمون چیکار میکنن و واسه چی هستن (فقط میدونیم اونورِ ماجرا که ساختِ nmos هستش به این ۸ تا نیازه) به ادامه حل میپردازیم
خب در ادامه گفته ترانزیستوری که میخواهیم بسازیم ۲ فلز داره که نتیجه میگیریم واسش ۴ ماسک نیازه و اینجا ۸ ماسک مشترکی که تو گونیمون! گذاشته بودیم و در میاریم و با این ۴ ماسک جمع میکنیم تا در کنارِ هم به خوبی و خوشی تشکیل یک nmos افزایشی بدن
با این اوصاف جواب میشه ۱۲